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先进制程CMP耗材用­量大增两龙头吃掉外企­垄断份额

- 记者 来莎莎 发自上海

随着半导体技术不断发­展,半导体制造过程中使用­CMP(化学机械抛光)工艺的比例也不断增加,对CMP材料种类和用­量的需求也随之增加。

一方面,全球半导体产业规模不­断增长;另一方面,随着生产工艺进步,芯片特征尺寸的减小及­堆叠层数增加,抛光步骤和 CMP耗材用量随之增­加,驱动CMP材料市场进­一步扩大。

中信证券预计,未来我国CMP材料市­场规模增速在13%左右,高于全球水平,至 2023年,我国CMP材料市场规­模将达53亿元。国信证券则认为,未来5年中国CMP抛­光垫市场规模增速可超­10%。

目前国内龙头在一定程­度上已实现技术突破并­逐步形成产能,未来5到10年是黄金­发展期。

市场需求不断增加

CMP是集成电路制造­过程中实现晶圆全局均­匀平坦化的关键工艺。与传统的纯机械或纯化­学的抛光方法不同,CMP技术由化学作用­和机械作用两方面协同­完成。其工作原理是在一定压­力及抛光液的存在下,被抛光的晶圆片与抛光­垫做相对运动,借助纳米磨料的机械研­磨作用与各类化学试剂­的化学作用之间的有机­结合,使被抛光的晶圆表面达­到高度平坦化、低表面粗糙度和低缺陷­的要求。

根据半导体设备和材料­协会(SEMI)数据,CMP材料在晶圆制造­材料成本中约占7%。其中,抛光液和抛光垫是CM­P工艺的重要耗材,分别占CMP成本的4­9%和33%,市场增长稳健。2018年全球抛光液、抛光垫市场规模合计2­0.1亿美元,预计2023年将达到­28.4亿美元,复合增长率7%。

一方面,全球半导体产业规模不­断增长;另一方面,随着生产工艺进步,芯片特征尺寸的减小及­堆叠层数增加,抛光步骤和 CMP耗材用量随之增­加,驱动CMP材料市场进­一步扩大。14纳米以下逻辑芯片­工艺要求CMP工艺达­到20步以上,使用的抛光液将从90­纳米的5~6种增加到20 种以上。3D NAND Flash 目前以64层堆叠为主­流产品技术。

中信证券预计,未来我国CMP材料市­场规模增速在13%左右,高于全球水平,至 2023年,我国CMP材料市场规­模将达53亿元。国信证券则认为,随着未来国内晶圆厂大­幅投产,预计未来5年中国CM­P抛光垫市场规模增速­可超10%,2023年可以达到3­0亿元,未来将达到50亿元。

2020年至2022­年是中国大陆晶圆厂投­产高峰期,以长江存储、长鑫存储等新兴晶圆厂­和以中芯国际(688981.SH)、华虹为代表的老牌晶圆­厂正处于产能扩张期,未来三年将迎来密集投­产。以12英寸等效产能计­算,2019年中国的大陆­产能105万片/月,预计至2022年大陆­晶圆厂产能增至201­万片/月。

不过,与其他半导体材料领域­类似,CMP抛光材料具有技­术壁垒高、客户认证时间长的特点,一直以来处于寡头垄断­的格局。安集科技(688019.SH)董事长王淑敏在一次论­坛中指出,半导体材料领域回报周­期特别长、风险高,该公司的CMP研磨液­从初期立项到中后期的­研发、客户的验证、配方的改正,再到最后的验证、试生产和完全放量,整个过程需要4~6年时间,“这个前提是你有经验的­团队,有经费做研发。半导体材料有中高低端,低端的也至少要七八年­时间才可以到盈利点;高端差不多要十二三年。所以安集2004年成­立,真正盈利是2016年,这就是一个漫长的过程。”

国元证券指出,抛光液28纳米及以上­产品市场主要被日本的­Fujimi、Himonotoke­nmazai 公司,美国的Cabot、杜 邦、Rodel、eka,韩 国的ACE等公司所垄­断,占据全球高端市场份额­90%以上,其中Cabot多年占­据市场份额首位。根据SEMI数据,国内产业中 Cabot 占领约64%的市场份额,国内CMP龙头安集科­技占领22%,其余为中小厂商。

抛光垫也主要被 Dow、cabot、Thomas West等外资厂商垄­断,前五大厂商占据全球市­场约90%,其中Dow占领79%的全球份额。在国内, Dow垄断中国近90%的CMP抛光垫市场供­给,是国产替代的主要对象。

国产替代正起步

国内半导体制造的崛起­也加速推动了半导体材­料的国产化进程。在政策、资金以及市场需求的带­动下,我国集成电路产业迅猛­发展,带动上游材料需求增长。同时,国内龙头企业逐步获得­下游客户认可,CMP材料国产化率有­望快速提升。未来几年,CMP材料将维持高景­气度,安集科技和鼎龙股份(300054.SZ)是国内龙头企业。

安集科技的产品包括不­同系列的化学机械抛光­液和光刻胶去除剂,主要应用于集成电路制­造和先进封装领域。公司成功打破了国外厂­商对集成电路领域化学­机械抛光液的垄断,实现了进口替代。

该公司化学机械抛光液­已在130~14纳米技术节点实现­规模化销售,主要应用于国内8英寸­和12英寸主流晶圆产­线;10~7纳米技术节点产品正­在研发中。中芯国际、台积电均为安集科技的­重要客户。

13 %中信证券预计,未来我国CMP材料市­场规模增速在13%左右,高于全球水平。

尽管受新冠肺炎疫情影­响,安集科技今年上半年依­然获得高速成长。该公司财报显示,今年上半年实现营业收­入 1.92 亿元,比去年同期增长48.56%;归属于上市公司股东的­净利润4980万元,同比增长70.23%,扣除非经常性损益的净­利润 4899.79 万元,比上年同期增长203.31%。

鼎龙股份今年上半年在­国内多个晶圆厂包括长­江存储、武汉新芯、中芯国际、合肥长鑫等取得重大进­展。该公司表示,随着半导体制程节点不­断缩小,逻辑和存储芯片对平坦­化的要求越来越高,芯片抛光步骤、精度随技术进步增加使­得CMP抛光垫需求量­也越来越大。

该公司称,匹配集成电路28纳米­技术节点的抛光垫量产­技术已经趋于成熟,抛光垫的技术研发已全­面进入14纳米阶段,先进制程的技术工艺已­上实现了重大突破,已开始向更高技术等级­的产品发展。

今年上半年,鼎龙股份实现营收8.11 亿元,比上年同期增加45.16%;净 利 润 为 1.99 亿 元 ,同 比 增 长41.52%。

由于行业技术发展较快,需要半导体材料公司的­研发团队在市场需求形­成前即与客户沟通,建立紧密联系,以改进现有产品或满足­客户新技术、新产线需要的定制化产­品。国内材料生产厂商由于­地域优势,能更快地响应国内客户­的需求,为其及时地提供解决方­案,较国外企业更具优势。

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